Створена установка для іонно-плазмового формування вуглецевих нанотрубок та інших наноструктур. Установка містить високовакуумну систему відкачки, систему напуску робочих газів, камеру геліконного розряду, камеру дрейфа, вакуумно-дугові джерела, джерела живлення та систему контролю з малогабаритним оптичним спектрометром. Установка інтегрує процеси плазмово-стимульованого хімічного парофазного осадження, очищення та активації поверхні підкладки у плазмі розряду, нанесення перехідних адгезійних шарів та шарів металу-каталізатора, а також процес безпосереднього формування вуглецевих наноструктур.

1. Нанотехнологии в электронике / Под ред. Ю. А. Чаплыгина. – М.: Техносфера, 2005. – 448 с.
2. Shinohara S., Shamrai K.P. Effect of electrostatic waves on a rf field penetration into highly collisional helicon plasmas // Thin Solid Films. – 2002. – V. 407. – № 1—2. – P. 215-220.
3. Кралькина Е.А. Индуктивный высокочастотный разряд низкого давления и возможности оптимизации источников плазмы на его основе // УФН. – 2008. – Т. 178. – № 5. – С. 519-540.