Вакуумно-плазмовий модуль для формування структур елементної бази наноелектроніки та мікроенергетики

ЗаголовокВакуумно-плазмовий модуль для формування структур елементної бази наноелектроніки та мікроенергетики
Тип публікаціїJournal Article
Year of Publication2010
АвториРуденко, ЕМ, Короташ, ІВ, Семенюк, ВФ, Шамрай, КП
Short TitleNauka innov.
DOI10.15407/scin6.03.036
Об'єм6
Проблема3
РубрикаНауково-технічні інноваційні проекти Національної академії наук України
Pagination36-38
МоваУкраїнська
Анотація
Створено вакуумно-плазмовий модуль – спеціалізовану технологічну установку прецизійного розмірного травлення та багатофункціональної іонно-плазмової обробки. Модуль базується на дворозрядній системі, що складається з джерел високоселективного плазмохімічного та високоанізотропного реактивно-іонного травлення. Установка призначена для формування структур елементної бази наноелектроніки та топології наноприладів, термоемісійних джерел, елементів перетворення сонячної та теплової енергії в електричну.
Ключові словаємнісне магнетронне ВЧ-джерело плазми, іонно-плазмові технології, вакуумно-технологічне обладнання, геліконне джерело плазми, нано- і мікроелектроніка
Посилання
1. Shinohara S., Shamrai K.P. Effect of electrostatic waves on a rf field penetration into highly collisional helicon plasmas // Thin Solid Films. − 2002. − V. 407. − № 1-2. − P. 215-220.
2. Кралькина Е.А. Индуктивный высокочастотный разряд низкого давления и возможности оптимизации источников плазмы на его основе // УФН. – 2008. − Т. 178. − № 5. − С. 519-540.
3. Руденко Е.М., Короташ І.В., Семенюк В.Ф., Шамрай К.П. Установка для прецизійного іонно-плазмового формування вуглецевих нанотрубок в єдиному вакуумнотехнологічному циклі // Nauka innov. 2009. 5(5):5-8.
https://doi.org/10.15407/scin5.05.005