Вакуумно-плазмовий модуль для формування структур елементної бази наноелектроніки та мікроенергетики
Заголовок | Вакуумно-плазмовий модуль для формування структур елементної бази наноелектроніки та мікроенергетики |
Тип публікації | Journal Article |
Year of Publication | 2010 |
Автори | Руденко, ЕМ, Короташ, ІВ, Семенюк, ВФ, Шамрай, КП |
Short Title | Nauka innov. |
DOI | 10.15407/scin6.03.036 |
Об'єм | 6 |
Проблема | 3 |
Рубрика | Науково-технічні інноваційні проекти Національної академії наук України |
Pagination | 36-38 |
Мова | Українська |
Анотація | Створено вакуумно-плазмовий модуль – спеціалізовану технологічну установку прецизійного розмірного травлення та багатофункціональної іонно-плазмової обробки. Модуль базується на дворозрядній системі, що складається з джерел високоселективного плазмохімічного та високоанізотропного реактивно-іонного травлення. Установка призначена для формування структур елементної бази наноелектроніки та топології наноприладів, термоемісійних джерел, елементів перетворення сонячної та теплової енергії в електричну.
|
Ключові слова | ємнісне магнетронне ВЧ-джерело плазми, іонно-плазмові технології, вакуумно-технологічне обладнання, геліконне джерело плазми, нано- і мікроелектроніка |
Посилання | 1. Shinohara S., Shamrai K.P. Effect of electrostatic waves on a rf field penetration into highly collisional helicon plasmas // Thin Solid Films. − 2002. − V. 407. − № 1-2. − P. 215-220.
2. Кралькина Е.А. Индуктивный высокочастотный разряд низкого давления и возможности оптимизации источников плазмы на его основе // УФН. – 2008. − Т. 178. − № 5. − С. 519-540. 3. Руденко Е.М., Короташ І.В., Семенюк В.Ф., Шамрай К.П. Установка для прецизійного іонно-плазмового формування вуглецевих нанотрубок в єдиному вакуумнотехнологічному циклі // Nauka innov. 2009. 5(5):5-8. https://doi.org/10.15407/scin5.05.005 |