Головна /Архів /2010, Том 6 /6(5) /Високояскравісні ВЧ-джерела іонів для прискорювальних застосувань

Високояскравісні ВЧ-джерела іонів для прискорювальних застосувань

ЗаголовокВисокояскравісні ВЧ-джерела іонів для прискорювальних застосувань
Тип публікаціїJournal Article
Year of Publication2010
АвториВозний, ВІ, Мирошніченко, ВІ, Мордик, СМ, Нагорний, АГ, Нагорний, ДА, Сторіжко, ВЮ, Шульга, ДП
Short TitleNauka innov.
DOI10.15407/scin6.05.038
Об'єм6
Проблема5
РубрикаНаукові основи інноваційної діяльності
Pagination38-44
МоваРосійська
Анотація
Наведені результати досліджень двох типів ВЧ-джерел іонів: геліконного та мультикаспового з компактними системами постійних магнітів. Отримано такі параметри джерел: густина плазми – 1011–9×1012 cм-3, густина іонного струму – 10-130 мА/cм2, яскравість –  100 A•м-2•рад-2•еВ-1, енергетичний розкид 8-30 еВ при ВЧ-потужності 40-400 Вт, що вводиться у плазму, і робочому тиску в розрядній камері 2-10 мТорр.
Ключові словагеліконне джерело іонів, мультикаспове джерело іонів, фокусований пучок іонів, яскравість
Посилання
1. Возный В.И., Мирошниченко В.И., Мордик С.Н. и др. Экспериментальная установка для тестирования ВЧ-источников ионов // Вопросы атомной науки и техники. Серия «Плазменная электроника и новые методы ускорения» (3). — 2003. — № 4. — С. 284-287.
2. Нагорный Д.А., Нагорный А.Г., Возный В.И. Сверхвысокочастотный интерферометр для измерения плотности стационарной плазмы // Приборы и техника эксперимента. — 2005. — № 2. — С. 98-100.
3. Boswell R.W, Porteous R.K. Large volume, high density rf inductively coupled plasma // Apll. Phys. Lett. — 1987. — Vol.50. — P. 1130.
4. Chen F.F., Sudit I.D., Light M. Helicon waves in a nonuniform plasma // Plasma Sources Sci. Technol. — 1996. — No. 5. — P. 173.
5. Shamrai K.P. and Taranov V.B. Resonance wave discharge and collision energy absorption in helicon plasma source // Plasma Phys. Control. Fusion. — 1994. — Vol. 36. — № 11. — P. 1719-1735.
6. Miroshnichenko V.I., Mordyk S.M., Olshansky V.V. et all. Possibilities to increase rf ion source brightness for nuclear microprobe applications // Nucl. Instrum. Meth. B. — 2003. — V201. — P. 630-636.
7. Mordyk S., Voznyy V., Miroshnichenko V., Storizhko V. Patent of Ukraine UA 67392, H 01J 27/16, 2003098400 (15.06.2004 BulletinN6).
8. Miroshnichenko V.I., Mordyk S.M., Storizhko V.E. et all. Sulkio-Cleff B. and Voznyy V.I. Development of a dedicated ion injector for accelerator-based nanoprobe fa cilities // Vacuum. — 2004. — Vol. 75. — № 2. — Р. 237-242.
9. Miroshnichenko V.I., Mordyk S.M., Storizhko V.E. et all. High brightness rf ion source for accelerator-based microprobe facilities // Rev. Sci. Instrum. — 2004. — Vol. 75. — № 5. — Р. 1922-1924.